Recirculating Chiller Heater

Recirculating Chiller Heater

The recirculating chiller heater adopts dynamic cooling and heating temperature control technology, and can be matched with various reactors and instruments to provide corresponding cold and heat sources. So, what are the applications of the recirculating chiller heater?

1. Supporting reactor

The SUNDI series is compatible with various materials and small, medium and large reactors (with high stability at temperatures from -80 to 200°C)

The TCU temperature control unit can be used for process thermostat controllers and multiple reactors (satisfies dynamic temperature control, wide temperature range) and can customize the isolated explosion-proof style recirculating chiller heater.

2. Supporting microchannel reactor

WTD series recirculating chiller heaters are specially designed and developed for the characteristics of small liquid holding capacity/high heat exchange capacity and large pressure drop in the circulation system of the microchannel reactor. Optimize temperature sampling and response speed, specially design control algorithm, can quickly respond to stable temperature control. The capacity design of the circulating pump is enhanced to meet the high pressure drop requirement of the reactor.

3. Application in semiconductor manufacturing process

LTS series recirculating chiller heaters are widely used in semiconductor manufacturing processes to control the temperature of reaction chambers, heat sink plates, and places that require non-flammable fluids as heat transfer media. They are suitable for refrigeration in semiconductor chip manufacturing, chip devices, and avionics equipment. Heating temperature control.

4. Rotary evaporation matching

The recirculating chiller heater can supply 2 to 3 small rotary steamers at the same time. The air cooling is adjusted by branch, and the water in the laboratory is saved.

The recirculating chiller heater of our company is also used in the temperature control of the fermenter, etc. When selecting the model, the working condition requirements of the supporting equipment and the operating temperature range are generally considered.

ダイナミック温調システム（カスタマイズ対応）               

冷暖房システム (SUNDIシリーズ) (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-120°C～+350°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、自動車産業、半導体および電気テスト、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学およびその他の産業。

冷暖房システム（WTDシリーズ） (カスタムデザイン)

（マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型）

温度制御範囲：-70℃～+300

マイクロ流路に特化した設計（液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、循環システムの圧力損失が高い）

冷暖房システム (TESシリーズ) (カスタムデザイン)

温度制御範囲: -85°C ~ +250°C

温度制御精度： ± 0.3°C

冷却・加熱装置（LTSシリーズ） (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-80°C～+80°C

半導体プロセスにおいて、反応チャンバー、ホットシンクプレート、不燃性熱媒体の温度制御に広く使用されています。

冷暖房サーキュレーター (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-45℃～+250

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。

加熱サーキュレーター (カスタムデザイン)

温度制御範囲+50℃〜+300

注：UCシリーズは熱媒体の温度を制御することができる。USTシリーズは熱媒の温度を制御できるだけでなく、反応材料の温度も制御できます。

TCU マルチリアクター温度制御システム (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-120°C～+250°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。