Principle and Process of TCU Temperature Control Unit

The TCU temperature control unit is different from the refrigeration and heating temperature control systems. The temperature control process is the process of controlling the temperature of the reactor materials. The principle is relatively simple. TCU adopts the method of changing the control set value to react as quickly as possible to the system lag in the process and obtain a small system overshoot. TCU control consists of two sets of PID control loops, called the master loop and the slave loop. The control output of the master loop is used as the set value of the slave loop.

TCU temperature control uses feedforward PV and the PID operation result output of the master control loop, and combines the feedforward PV signal as the set value of the slave control loop. TCU controls the temperature gradient in this way to ensure the accuracy of system temperature control. The specially designed lag predictor of TCU generates a dynamic signal yc(t) instead of the process variable y(t) as a feedback signal. Generate an e(t) signal to the controller, allowing the controller to predict the control effect without large lag, so that the controller can always generate appropriate control signals. That is, even with a large hysteresis, this dynamic signal yc(t) can keep the feedback loop working properly. However, if a universal PID is used to control a process with significant time lag, the controller output cannot be obtained correctly within that lag time. The feedback signal continues to increase, causing a large overshoot in the TCU system response, and even causing the system to lose control.

TCU temperature control adopts three-point sampling (material temperature point, temperature control system outlet temperature, temperature control system inlet temperature), combined with self-built model-free self-building tree algorithm and universal anti-lag cascade algorithm. When choosing a TCU, you can choose the corresponding types of conventional, isolation explosion-proof, and positive pressure explosion-proof TCU according to your own requirements.

We provide complete temperature control systems design and manufacturing. From standard models to complete customized products. We specialize in customer service and are dedicated to helping each customer have the optimal temperature control system for their specific need.

私達は標準外カスタマイズされた解決を提供します。単一の冷却のスリラーおよび冷却及び暖房のコンボの単位は両方利用できます。

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冷暖房システム (SUNDIシリーズ)

（カスタムデザイン）

• 温度範囲：-120℃〜+350
• 高精度でインテリジェントな温度制御
• 冷却能力：0.5kW～1200kW
• 熱流体の寿命を延ばす完全密閉システム
• 各装置は12時間以上の負荷テストを実施

冷暖房システム（WTDシリーズ）

（カスタムデザイン）

• （マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型）
• 温度範囲：-70℃〜+300
• 高性能循環ポンプ、より安定した温度制御効果
• 幅広い温度範囲で、より多くの業界のニーズに対応
• 各装置は12時間以上の負荷テストを実施

冷暖房サーキュレーター

（カスタムデザイン）

• 温度範囲：-45℃〜+250
• エマソンのコープランドコンプレッサー、信頼できる品質
• 自己診断機能、複数の安全保護装置
• 熱流体の寿命を延ばす完全密閉システム
• 各装置は12時間以上の負荷テストを実施

加熱サーキュレーター

（カスタムデザイン）

• 温度範囲+50℃ ~ +300℃
• 熱交換面積が大きく、加熱速度が速い
• 自己診断機能、複数の安全保護装置
• クローズド循環システム、高温時のオイルミストなし
• 各装置は12時間以上の負荷テストを実施

TESシリーズ（燃料・油試験用温度制御装置）

（カスタムデザイン）

• 温度範囲：-85℃〜+250
• シーメンスPLCコントローラおよびその他のブランドアクセサリー
• 自己診断機能、複数の安全保護装置
• 完全密閉式循環システムにより、高温時のオイルミスト発生なし
• 各装置は12時間以上の負荷テストを実施

TCU マルチリアクター温度制御システム

（カスタムデザイン）

• 温度範囲：-120℃〜+250
• 密閉された再現可能な温度制御
• 電気暖房熱油補助システム内蔵
• ニーズに応じて冷熱・熱源熱交換モジュールを追加する
• 各装置は12時間以上の負荷テストを実施

冷却チラー                                                                                                     

循環式チラー / 冷凍サーキュレーター

(カスタムデザイン)

チラーは様々な産業や研究所で広く使用することができ、カスタマイズされた設計をサポートしています。

ミニチラー/小型チラー

(カスタムデザイン)

チラーは様々な産業や研究所で広く使用することができ、カスタマイズされた設計をサポートしています。

低温チラー

(カスタムデザイン)

当社は、-150℃の温度制御範囲を持つ低温冷凍機の生産を専門としており、さまざまな業界の冷凍ニーズを満たすことができます。

高温チラー

(カスタムデザイン)

チラーは様々な産業や研究所で広く使用することができ、カスタマイズされた設計をサポートしています。