Chiller Heating and Cooling System
Chiller heating and cooling system is suitable for connecting reaction kettles for refrigeration and heating reactions in pharmaceutical, chemical and laboratory industries, especially our SUNDI series is mainly used for heating and cooling of glass reactors and metal reactors control.
First, the industry application of chiller heating and cooling system:
1. Pharmaceuticals: synthesis, hydrolysis, esterification, etherification and other processes that require temperature control.
2. Chemical industry: rectification and purification, rubber crushing, cryogenic grinding, chemical synthesis.
3. Electronics: environmental testing of parts and components, simulation testing of electronic components.
4. Aerospace: heat sink experiment, component environment simulation test, evaporative cold environment simulation test.
Second, the definition of chiller heating and cooling system:
It is a device that uses heat-conducting medium for dynamic temperature control of fluid refrigeration and heating. It is used in high-precision industries such as pharmaceuticals, chemicals, and semiconductors to help customers complete process temperature control equipment. It is equipped with biochemical test equipment such as reaction kettles, distillation, evaporators, and rotary evaporators. Carry out cooling and heating control of heat transfer medium or reaction material.
Third, the advantages of chiller heating and cooling system
High-temperature cooling technology, which can directly cool down at a high temperature of 300°C, fully closed circulation system, single medium temperature control, temperature: -90°C~250°C high-precision intelligent temperature control, temperature control accuracy: ±0.5°C. Multifunctional alarm system and reliable function, magnetic circulation pump, no shaft seal, solve the leakage problem of circulation pump.
Fourth, what reactions can the chiller heating and cooling system be used for:
Used in polymerization, crystallization, oxidation reaction, catalytic hydrogenation reaction (hydrogenation reaction), nitration reaction, fluorination reaction, chlorination reaction, bromination reaction, epoxidation reaction, heavy ammoniation reaction, helium reaction, hydrolysis reaction, polymerization reaction, photocatalytic oxidation reaction, rearrangement reaction, Michael addition reaction, peroxide preparation reaction, methylation reaction, low temperature reaction, Grignard reaction, epichlorohydrin preparation reaction, cyclization reaction, condensation reaction, Photocatalytic addition reaction, multi-step reaction series reaction, coupling reaction, acylation reaction, acid-base reaction, polymerization reaction, polymer synthesis, low molecular synthesis, crystallization, recrystallization
Fifth, what working conditions do you need to provide when choosing a chiller heating and cooling system?
Temperature range, what field it is used in, what it is used for, temperature control accuracy, heating and cooling rate, cooling capacity, size, material, quantity of supporting reactor, reactor material.
冷暖房システム (SUNDIシリーズ)
温度制御範囲:-120°C~+350°C
用途各種リアクター(マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど)、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、自動車産業、半導体および電気テスト、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学およびその他の産業。
温度範囲 | -40 ~ +200℃シリーズ | -10 ~ +200℃シリーズ | -25 ~ +200℃シリーズ | -25 ~ +300℃シリーズ | -45 ~ +250°C シリーズ | -45 ~ +300℃シリーズ | -60 ~ +250°C シリーズ | -60 ~ +300℃シリーズ | -70 ~ +250°C シリーズ | -80 ~ +250°C シリーズ | -90 ~ +250°C シリーズ | -100 ~ +100℃シリーズ | -25 ~ +200°C 1台で2台のリアクターに対応 | -40 ~ +200°C 1台で2台のリアクターに対応 |
冷却能力 | 3kWまで | 15kWまで | 200kWまで | 200kWまで | 200kWまで | 最大25kW | 60kWまで | 最大25kW | 15kWまで | 最大80kW | 最大80kW | 最大80kW | 最大10*2kW | 最大10*2kW |
冷暖房システム(WTDシリーズ)
(マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型)
温度制御範囲:-70℃~+300
マイクロ流路に特化した設計(液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、循環システムの圧力損失が高い)
温度範囲 | -70°C ~ +300°C | -45°C ~ +250°C | -70°C ~ +200°C |
冷却能力 | up to 7.5kW | up to 5.5kW | 最大50kW |
冷暖房システム (TESシリーズ)
温度制御範囲: -85°C ~ +250°C
温度制御精度: ± 0.3°C
温度範囲 | -45°C ~ +250°C シリーズ | -85°C ~ +200°Cシリーズ | -60°C ~ +200°Cシリーズ |
冷却能力 | 最大25kW | 最大25kW | 60kWまで |
冷却・加熱装置(LTSシリーズ)
温度制御範囲:-80°C~+80°C
半導体プロセスにおいて、反応チャンバー、ホットシンクプレート、不燃性熱媒体の温度制御に広く使用されています。
温度範囲 | -20°C ~ +80°Cシリーズ | -45°C ~ +80°Cシリーズ | -60°C ~ +80°C シリーズ | -80°C ~ +80°Cシリーズ |
フロー制御 | 7 ~ 45 L/分 | 7 ~ 45 L/分 | 7 ~ 45 L/分 | 7 ~ 45 L/分 |
冷暖房サーキュレーター
温度制御範囲:-45℃~+250
用途各種リアクター(マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど)、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。
温度範囲 | -25°C ~ +200°Cシリーズ | -45°C ~ +250°C シリーズ |
冷却能力 | 15kWまで | 15kWまで |
加熱サーキュレーター
温度制御範囲+50℃〜+300
注:UCシリーズは熱媒体の温度を制御することができる。USTシリーズは熱媒の温度を制御できるだけでなく、反応材料の温度も制御できます。
温度範囲 | +50°C ~ +200°C (UC series) | +50°C ~ +300°C(UCシリーズ) | +50°C ~ +300°C(USTシリーズ) |
暖房能力 | 最大38kW | 200kWまで | 95kWまで |
TCU マルチリアクター温度制御システム
温度制御範囲:-120°C~+250°C
用途各種リアクター(マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど)、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。
温度範囲 | -45°C ~ +250°C シリーズ | -120°C ~ +250°Cシリーズ | カスタマイズされた温度制御システム | RT+10°C ~ +135°C |
暖房能力 | 最大80kW | 最大80kW | カスタム | up to 300kW |