TCU capable de réactions catalytiques à haute température, de synthèse de médicaments, de polymérisation à haute pression

Le système de contrôle de la température TCU UTILISE l'infrastructure existante du système de chaleur (comme la vapeur, l'eau de refroidissement et le liquide cryogénique - le "primaire") qui est intégrée dans le système de fluide unique utilisé pour contrôler la température de l'équipement de traitement ou dans la boucle secondaire.Cela permet d'obtenir un seul type de liquide de transfert de chaleur qui peut circuler dans l'enveloppe de la cuve de réaction (pas directement dans la vapeur, l'eau de refroidissement ou le liquide à très basse température).La température de l'ensemble du processus de réaction est contrôlée par l'opération.

Plage de température ：-45℃~ 250℃（setting the max temp according to the supplier heating or cooling source）.
-40℃～135℃（La plage de température maximale peut être exploitée en utilisant la formule eau glycolée.）

ZLF- N:La source principale de froid et/ou la source principale de chaleur est utilisée pour réguler le débit du système par le biais d'un système de régulation proportionnelle, et pour contrôler la chaleur du serrage du réservoir de réaction, et un ensemble d'échangeurs de chaleur pour le chauffage ou le refroidissement est contrôlé ou refroidi.

ZLF- NS:En plus de la fonction ZLF- N，addition d'un dispositif de chauffage utilisé pour réduire les températures élevées

ZLF- NH:Outre la fonction ZLF- N，addition de la fonction de chauffage électrique

ZLF- NSH : en plus de la fonction ZLF-N, ajout d'un dispositif de chauffage pour réduire les températures élevées et d'une fonction de chauffage électrique.